会议由中国电子材料行业协会常务副秘书长、电子化工新材料产业联盟秘书长鲁瑾主持。

宜兴市人民政府薛皓月副市长到会致辞。薛皓月副市长在致辞中表示，光刻胶是事关国家经济安全的材料，也是电子化学品技术壁垒最高的产业，是集成电路生产制造的核心材料，竞争非常激烈。宜兴作为长三角区域传统制造业高地，主动担当国家使命，抢抓新一轮科技革命和产业革命的重要机遇，大力推动光刻胶与集成电路相关产业发展，下一步将围绕园区平台集群企业等重点要素加速全力推动相关产业企业快速聚集。

主旨演讲环节，大连理工大学彭孝军院士、中芯国际集成电路制造有限公司赵健资深技术专家、京东方科技集团股份有限公司张雁总监、TCL华星光电技术有限公司熊城杰总监、复旦大学邓海教授、北京科华微电子材料有限公司陈昕总经理、北京师范大学王力元教授、无锡华润上华科技有限公司钱亚军光刻经理、默克光电材料（上海）有限公司雷本亮技术服务总监、常州强力电子新材料股份有限公司李军总裁、上海交通大学姜学松教授、阜阳欣奕华材料科技有限公司张旭东总经理、江苏南大光电材料股份有限公司许从应总经理、江苏博砚电子科技有限公司曾利萍、周华显示产业首席分析师围绕光刻胶技术现状、产业应用、发展趋势、上下游产业链现状、协同发展机遇和挑战等主题做了精彩分享。

大连理工大学彭孝军院士在报告《极紫外光刻胶》中表示，历史角度来看，我们一直从长波长逐渐缩短，最初是可见光，再到紫外，再到深紫外，再到极紫外。极紫外现在刚刚开始使用，极紫外的光刻胶还没有大规模应用，现在还处于摸索阶段，但这是一个必然的趋势。彭孝军院士强调，极紫外最大的优越性在于分辨率，同时它的边缘效果也极好。但是目前不足的是它的灵敏度还不够，需要进一步攻克。希望大家共同努力，为未来中国产业界真正能用上极紫外，奠定基础。

中芯国际、京东方、华星光电、华润上华等下游厂商的代表们表示，中国光刻胶市场规模较大，但高端产品基本由日美企业垄断。光刻胶产业化技术与配方技术、工艺技术、品质管控技术、原材料纯化技术等息息相关。国内产品在诸多方面存在瓶颈，建议光刻胶企业加强与下游应用厂商座谈交流，完善自身管理体系，要深入积极探索未来技术，提前布局研发投入。

复旦大学、北京师范大学、上海交通大学等大学的代表们表示，高校在光刻胶发展中所起到的作用仍较小，经费短缺、设备短缺，与企业合作较少是制约高校相关研究发展的主要瓶颈，希望得到更多的经费支持，同时和企业更多的合作，为行业发展培养更多的人才。

北京科华、阜阳欣奕华、南大光电、江苏博砚等光刻胶厂商的代表们表示，国内光刻胶一直处于追赶的过程中，差距主要可以归纳在以下三个方面：

（1）光刻胶不是单一学科，需要几个学科融会贯通，即使掌握了这些学科，还有一个融会贯通的需要，所以需要时间，做的过程中有很强技术壁垒。科学研究可以很迅速取得成绩，而工程化需要积淀，希望在加强科学研究取得巨大进展的同时，也加强工程化研究，这样稳定性问题可以得到很好的解决。

（2）人才梯队的构建仍有较大问题，光刻胶不仅需要人才，更需要人才团队，这个团队的打造国内差距较大。

（3）光刻胶进入高档胶以后，投入需要大幅提升，小量的资金投入已经不能保障产业快速发展，如何聚集更大的资本来支持，亟待思考。

强力新材等原材料厂商的代表们表示，光刻胶用树脂、光致产酸剂等原材料依然高度依赖进口。希望下游开发任何新的技术，能有更多材料企业参与，做好知识产权布局，政策支持上能向材料和原材料领域倾斜。

本次会议，中国科学院、中国工程院、复旦大学、上海交通大学等科研院所和大学，中芯国际、华润上华、京东方、华星光电等下游应用单位，北京科华、苏州瑞红、南大光电、阜阳欣奕华等生产企业，强力新材、山东圣泉、久日新材等原料生产企业近150家光刻胶产业链相关单位的260多位代表齐聚一堂，共同围绕光刻胶技术、产品、需求、应用，以及光刻胶原料产学研企业展开研讨，对推动国内高端光刻胶技术创新，加快核心技术突破与产业化应用，同时加强下游需求应用与科研、产业企业的协同研发、技术交流起到了强有力的支撑作用。